設(shè)備組成:主體設(shè)備,輔助設(shè)備及電控設(shè)備。
主體設(shè)備組成:電解槽,附屬設(shè)備一體化框架。
輔助設(shè)備組成:水箱,堿箱及補水泵及氣體減壓分配框架等。
電控設(shè)備組成:整流柜,配電柜等。
電廠用制氫干燥一體化裝置 | ||||
型號 | 部件名稱 | 長度(mm) | 寬度(mm) | 高度(mm) |
DQ-5/3.2 | 框架 I Frame I | 3000 | 2000 | 2150 |
框架 II Frame II | 1740 | 1100 | 270(厚) | |
框架 III Frame III | 1500 | 1100 | 1500 | |
DQ-10/3.2 | 框架 I Frame I | 3000 | 2000 | 2450 |
框架 II Frame II | 1800 | 1700 | 270(厚) | |
框架 III Frame III | 1740 | 1100 | 136 |
電廠用制氫干燥一體化裝置主要技術(shù)指標 | ||||||||
制氫裝置型號 | 產(chǎn)氫量m3/h | 產(chǎn)氧量m3/h | 操作壓力MPa | 氫氣純度% | 氫氣露點℃ | 直流電耗 Kw-h/m3H2 | 槽體大修 周期(年) | 控制方式 |
DQ-5/3.2 | 5 | 2.5 | 3.2 | ≥99.8 | ≤-50 | ≤4.9 | 5-10 | I II III IV |
DQ-10/3.2 | 10 | 5 | 3.2 | ≥99.8 | ≤-50 | ≤4.9 | 5-10 | I II III IV |
※本裝置配套包括一體化制氫裝置、氫氣減壓分配盤、控制柜、整流柜、補水泵、原料水箱、堿液箱、分析儀表。
※I 氣動單元組合儀表控制;II 電動控制;III PLC控制;IV 現(xiàn)場總線控制。